V srpnu 2021 jsme pro Ústav analytické chemie, AV ČR instalovali Microwriter ML3 Pro od britského výrobce Durham Magneto Optics Ltd. (DMO). Jednou z hlavních aplikací je tvorba struktur pro spintroniku (například pro zkoumání spintronických Hallových jevů).
Jedná se o sestavu s volitelným rozlišením v rozsahu 0,4 µm až 5 µm, s vysoce přesným polohovacím systémem.
Zdroj osvitu s vlnovou délkou 385 nm a vysokým optickým výkonem je optimální pro i-line fotorezisty, ale umožňuje i zápis na běžné g-line a h-line fotorezisty.
Teplotní stabilizace zajišťuje maximální stabilitu i pro delší zapisovací úlohy (typicky pro kombinace vysokého rozlišení a velké plochy nebo zápis na více vzorků různých rozměrů).
Funkce integrovaného profilometru umožňuje mj. ověření zápisu po vyvolání struktury.
Funkce Virtual mask aligner (VMA) pro přesné zarovnání zápisu na existující struktury poslouží pro přesné a snadné mikro-kontaktování. Microwriter ML3 navíc umožňuje zápis i ve stupních šedi.
Parametry zařízení
- Vlnová délka zdroje: 385 nm
- Teplotní stabilizace: ± 0,25 °C
- Rozlišení zápisu: 400 nm, 600 nm, 1000 nm, 2000 nm a 5000 nm
- Počet objektivů: 5 (zvětšení 3× až 50×)
- Oblast zápisu: 195 mm × 195 mm
Další funkce: VMA, wide field viewer, integrovaný profilometr, autofocus, focus lock, virtuální rotace, automatické centrování vzorku, automatická detekce hran, automatické rozpoznání markerů
